ویفر سیلیکونی با لایه Si3N4

در صنعت نیمه هادی، لایه‌های سیلیکون نایتراید به عنوان ماده دی الکتریک، لایه محافظت کننده استفاده شده و یا به عنوان ماسک سخت به کار می‌روند.

ویژگی ها
ضخامت ویفر : 25 ± 525 میکرو‌متر
جهت کریستالی : 100
نوع ناخالصی : بورون
مقاومت : 1 تا 10 اهم سانتی‌متر
پولیش : یک سمت پولیش
ضخامت لایه نایتراید : 300 نانو‌متر
LPCVD : در دو طرف
مدت زمان تحویل
زمان : 24 تا 72 ساعت کاری
کاربرد‌ها
موارد مصرف: 1)ریز ماشین کاری 2)سخت غشا 3)MEMS
محل ساخت
کشور : سنگاپور

توضیحات
نظرات کاربران
برچسب ها

ویفر سیلیکونی با لایه Si3N4

شرح محصول:

در صنعت نیمه هادی، لایه‌های سیلیکون نایتراید به عنوان ماده دی الکتریک، لایه محافظت کننده استفاده شده و یا به عنوان ماسک سخت به کار می‌روند. از کاربرد‌های این نوع ویفر‌‌ها می‌توان به ریز ماشین کاری، ساخت غشا، MEMS و ... اشاره کرد.