خدمات پوشش دهی فلزات خالص به صورت نانوساختار

***نحوه‌ی سفارش این خدمت و ارسال نمونه در بخش توضیحات***

 

پوشش دهی فلزات خالص به صورت نانوساختار با روش لایه نشانی تبخیر فیزیکی با کندوپاش مغناطیسی به روش جریان مستقیم

  • ویژگی ها
  • قیمت: 1500000بدون تارگت، هزینه ارائه خدمات با تارگت جداگانه محاسبه می‌شود.
  • حداکثر ضخامت : 2 میکرون
  • ابعاد تارگت : قرص با قطر 2 اینچ
  • ابعاد زیر لایه : حداکثر تا 20 در 20 سانتی‌متر
  • تعداد نمونه در هر ران : 4 نمونه با ابعاد 4 در 4 سانتی‌متر
  • دمای زیر لایه : قابل تغییر
  • گاز مورد استفاده : آرگون (غیر قابل تغییر)
  • فشار : قابل تغییر
  • ولتاژ : قابل تغییر
  • ضخامت سنج : کامپیوتری
  • شاخص ها
  • شاخص های کلیدی: 1) دستگاه در مقیاس آزمایشگاهی است.
  • مدت زمان تحویل
  • زمان : 7 تا 10 روز کاری
  • کاربرد‌ها
  • موارد مصرف: 1)دستیابی به پوشش‌‌های مقاوم 2)ایجاد پوشش‌های سخت و با دوام با ضخامت کم 3)افزایش عملکرد ابزار‌های براده‌برداری و دنده زنی، قالب­‌های شکل دهی فلزات و تزریق پلاستیک و قطعات صنعتی 4)بهبود کیفیت قطعات تولیدی در فرآیند­های شکل‌دهی و حفظ دقت ابعادی قالب­‌ها به دلیل کاهش اصطکاک و چسبندگی پوشش‌ها با اجزا درگیر
  • محل ساخت
  • کشور : ایران

خدمات پوشش دهی فلزات خالص به صورت نانوساختار

شرح خدمت:

پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار (PVD):

روش رسوب فیزیکی بخار بیشتر برای تولید فیلم‌های نازک استفاده می‌شود. فیلم نازک اغلب برای پوشش‌های با ضخامت کمتر از 100 نانو‌متر استفاده می‌شود. اخیرا از این روش برای تولید نانوذرات نیز استفاده شده است. در این روش ماده مورد نظر تبخیر شده و روی زیرپایه نشانده می‌شود. نشست فیلم‌ها و پوشش‌های مختلف یعنی تبخیر اتم‌ها، مولکول‌ها و یا خوشه‌های اتمی ترکیبات مورد نظر از سطح با استفاده از روش‌های مختلف تبخیر و نشاندن آن‌ها روی زیرپایه. منبع اتم‌ها و مولکول‌ها می‌تواند به‌صورت گازی، مایع و یا جامد باشد. تبخیر اتم‌ها و مولکول‌ها از هدف به وسیله منابع حرارتی انجام می‌شود برای این منظور باید ماده اولیه تا رسیدن به فشار بخار مشخصی حرارت داده شوند. همچنین می‌توان از باریکه‌های پر انرژی مانند الکترون‌ها و فوتون‌ها برای تبخیر مواد اولیه استفاده کرد. روش PVD با روش CVD متفاوت است. روش رسوب فیزیکی بخار این روش بر پایه واکنش‌های فیزیکی است و در این روش با استفاده از منابع بخار و یا مایع، اتم‌ها و مولکول‌های واکنش ‌دهنده را به وجود می‌آورند.

پیشرفت‌های گسترده‌ای در فناوری لایه‌های نازک روی داده است که در بخش‌های مختلف صنعت کاربرد گسترده‌ای دارد. تا به امروز روش‌های مختلفی برای ساخت لایه‌های نازک معرفی شده است که روش کندوپاش یکی از انواع روش‌های لایه نشانی فیزیکی بخارمحسوب می‌شود که لایه نشانی فیزیکی بخار نیز به نوبه خود جز روش‌های لایه نشانی در خلا است. مانند سایر روش‌های لایه نشانی فیزیکی تحت شرایط خلا، روش کندوپاش نیز شامل (الف) تبخیر ماده منبع؛ (ب) انتقال بخار از منبع به زیرلایه و (ج) تشکیل لایه نازک روی زیرلایه با انباشت بخار منبع مورد نظر است. در روش کندوپاش، برای این که ماده منبع به فاز بخار خود منتقل شود، از بر هم کنش فیزیکی ذره‌هایی که به ماده منبع یا هدف (target) برخورد می‌کنند استفاده کرد. ماده هدف که به ولتاژ منفی متصل است، نقش کاتد را دارد. با بمباران و برخورد ذرات پر انرژی به سطح هدف، اتم‌ها یا مولکول‌های آن از سطح جدا شده و به بیرون پرتاب می‌شوند و درمیدان ایجاد کننده پلاسما شتاب می‌گیرند. زیرلایه به ولتاژ مثبت متصل است و در واقع آند است و لایه‌ای از جنس هدف روی آن انباشت می‌شود. این روش برای ایجاد پوشش و ساخت لایه‌های نازکی که کاربردهای مانند اپتیکی، ذخیره سازی مغناطیسی دارند، استفاده می‌شود متداول‌ترین روش کندوپاش، کندوپاش مغناطیسی است که در آن میدان مغناطیسی به موازات سطح کاتد اعمال می‌شود که باعث می‌گردد الکترون‌ها در نورانی به جای طی مسیر به صورت مستقیم به صورت مارپیچی حرکت کنند و علاوه بر اینکه الکترون‌ها پرانرژی تر می‌شوند مسیر بیشتری را طی و اتم‌های بیشتری را یونیزه می­کنند(شکل 1). بنابراین میدان مغناطیسی، پلاسما را در اطراف سطح هدف محدود می‌‌کند که این دام الکترونی آهنگ برخورد بین الکترون‌ها و مولکول‌های گاز که کندوپاش را به عهده دارند افزایش می‌دهد و سبب می‌شود که لایه نشانی در فشارهای پایین‌تر قابل انجام شود. میدان مغناطیسی با افزایش چگالی پلاسما، چگالی جریان در هدف یا کاتد را افزایش می‌دهد و در نتیجه آهنگ کندوپاش افزایش می‌یابد. به دلیل پایین بودن فشار گاز، ذرات کنده شده فضای محفظه را بدون برخورد طی می‌کنند که منجر به افزایش آهنگ لایه نشانی می‌شود. این روش در مقایسه با سایر روش‌ها، قابلیت لایه نشانی درمقیاس بزرگ را داراست. بنابراین برای کاربردهای صنعتی به طورگسترده استفاده می‌شود و به منظور افزایش آهنگ لایه نشانی ازکندوپاش مغناطیسی استفاده می‌گردد. چنان چه ولتاژ منبع تغذیه DC  باشد کندوپاش مستقیم نام دارد و معمولا برای لایه نشانی فلزات به کار گرفته می‌شود.
 

 

شکل 1)نمایی از کندوپاش مغناطیسی است که در آن میدان مغناطیسی به موازات سطح کاتد است و باعث می‌شود الکترون‌ها به جای طی مسیر به صورت مستقیم به صورت مارپیچی حرکت کنند و الکترون‌ها پرانرژی تر می‌شوند و مسیر بیشتری را طی و اتم‌های بیشتری را یونیزه می‌کنند.

 

در صورت نیاز به استفاده از این خدمات می‌توانید به شرح ذیل عمل نمایید:

1. پس از ثبت نام در سایت، با اکانت خود در سایت وارد شوید و از طریق بخش خدمات تخصصی، نوع خدمات خود را انتخاب نمایید.

2. خدمات انتخابی خود را به سبد خرید خود اضافه نمایید. (با توجه به آنکه قیمت پیش فرض تعیین شده برای یک نمونه می‌باشد، اگر تعداد نمونه شما بیشتر از یک نمونه می‌باشد قبل از افزودن به سبد خرید تعداد را به تعداد مورد نظر ارتقا دهید.)

.3  پس از تکمیل فرایند خرید، واریز وجه و دریافت شماره پیگیری، فرم تخصصی خدمات آنالیز را تکمیل و فرم‌ امضا شده را به همراه نمونه‌ی خود به آدرس ذیل ارسال نمایید. ضمنا خواهشمند است نسخه الکترونیکی این فرم را به صورت فایل Word، به آدرس nanoBAZARservice@ تلگرام فرمایید.

«تهران- منطقه 13 پستی-صندوق پستی 316-13445 به نام خانم فرهنگ آذر (دقیقا این عبارت در آدرس گیرنده روی پاکت درج شود).»

4. پس از انجام خدمات،  نمونه‌ی مربوطه به آدرس شما ارسال خواهد شد.

**بازگرداندن نمونه شامل هزینه می‌باشد که بایستی پس از سفارش در هنگام انتخاب روش ارسال، گزینه‌ ی "هزینه‌ی بازگرداندن نمونه‌-‌ویژه‌ی خدمات و آنالیزهای تخصصی" را انتخاب کنید.

 

نظرات کاربران درباره خدمات پوشش دهی فلزات خالص به صورت نانوساختار

نظری در مورد این محصول توسط کاربران ارسال نگردیده است.
اولین نفری باشید که در مورد خدمات پوشش دهی فلزات خالص به صورت نانوساختار نظر می دهد.

ارسال نظر درباره خدمات پوشش دهی فلزات خالص به صورت نانوساختار

لطفا توجه داشته باشید که ایمیل شما منتشر نخواهد شد.
 
کد امنیتی *
captcha

برچسب های مرتبط با خدمات پوشش دهی فلزات خالص به صورت نانوساختار

نانو بازار
قیمت: 1,500,000 ریال
وضعیت موجودی قابل انجام در نانوبازار