ویفر سیلیکونی با لایه Si3N4

در صنعت نیمه هادی، لایه‌های سیلیکون نایتراید به عنوان ماده دی الکتریک، لایه محافظت کننده استفاده شده و یا به عنوان ماسک سخت به کار می‌روند.

  • ویژگی ها
  • ضخامت ویفر : 25 ± 525 میکرو‌متر
  • جهت کریستالی : 100
  • نوع ناخالصی : بورون
  • مقاومت : 1 تا 10 اهم سانتی‌متر
  • پولیش : یک سمت پولیش
  • ضخامت لایه نایتراید : 300 نانو‌متر
  • LPCVD : در دو طرف
  • مدت زمان تحویل
  • زمان : 24 تا 72 ساعت کاری
  • کاربرد‌ها
  • موارد مصرف: 1)ریز ماشین کاری 2)سخت غشا 3)MEMS
  • محل ساخت
  • کشور : سنگاپور

ویفر سیلیکونی با لایه Si3N4

شرح محصول:

در صنعت نیمه هادی، لایه‌های سیلیکون نایتراید به عنوان ماده دی الکتریک، لایه محافظت کننده استفاده شده و یا به عنوان ماسک سخت به کار می‌روند. از کاربرد‌های این نوع ویفر‌‌ها می‌توان به ریز ماشین کاری، ساخت غشا، MEMS و ... اشاره کرد.

نظرات کاربران درباره ویفر سیلیکونی با لایه Si3N4

نظری در مورد این محصول توسط کاربران ارسال نگردیده است.
اولین نفری باشید که در مورد ویفر سیلیکونی با لایه Si3N4 نظر می دهد.

ارسال نظر درباره ویفر سیلیکونی با لایه Si3N4

لطفا توجه داشته باشید که ایمیل شما منتشر نخواهد شد.
 
کد امنیتی *
captcha

برچسب های مرتبط با ویفر سیلیکونی با لایه Si3N4

نانو بازار
قیمت: لطفاً تماس بگیرید
کد محصول 70105004
وضعیت موجودی اتمام موجودی (ثبت سفارش جهت لیست انتظار)