ویفر سیلیکونی نایتراید نوع P با زیرلایه اکسید، قطر 4 اینچ

در صنعت نیمه هادی، لایه‌های سیلیکون نایتراید به عنوان ماده دی الکتریک، لایه محافظت کننده استفاده شده و یا به عنوان ماسک سخت به کار می‌روند.

  • ویژگی ها
  • جهت کریستالی : <100>
  • مقاومت : 1 تا 10 اهم سانتی‌متر
  • پولیش : دو سمت پولیش
  • ضخامت اکسید: 120 نانومتر
  • ابعاد : قطر 4 اینچ
  • نوع : P
  • ضخامت لایه نایتراید: 300 نانومتر
  • مدت زمان تحویل
  • زمان : 24 تا 72 ساعت کاری
  • کاربرد‌ها
  • موارد مصرف: 1)ریز ماشین کاری 2)سخت غشا 3)MEMS
  • محل ساخت
  • کشور : چین با گارانتی نانوبازار

ویفر سیلیکونی نایتراید نوع P با زیرلایه اکسید، قطر 4 اینچ

شرح محصول:

در صنعت نیمه هادی، لایه‌های سیلیکون نایتراید به عنوان ماده دی الکتریک، لایه محافظت کننده استفاده شده و یا به عنوان ماسک سخت به کار می‌روند. از کاربرد‌های این نوع ویفر‌‌ها می‌توان به ریز ماشین کاری، ساخت غشا، MEMS و ... اشاره کرد.

نظرات کاربران درباره ویفر سیلیکونی نایتراید نوع P با زیرلایه اکسید، قطر 4 اینچ

نظری در مورد این محصول توسط کاربران ارسال نگردیده است.
اولین نفری باشید که در مورد ویفر سیلیکونی نایتراید نوع P با زیرلایه اکسید، قطر 4 اینچ نظر می دهد.

ارسال نظر درباره ویفر سیلیکونی نایتراید نوع P با زیرلایه اکسید، قطر 4 اینچ

لطفا توجه داشته باشید که ایمیل شما منتشر نخواهد شد.
 
کد امنیتی *
captcha

برچسب های مرتبط با ویفر سیلیکونی نایتراید نوع P با زیرلایه اکسید، قطر 4 اینچ

نانوبازار ویفر سیلیکونی اکسید نایتراید ویفرسیلیکونی لایه اکسید ویفر سیلیکونی لایه نایتراید SiO2 WAFER silicone wafer Si3N4
قیمت: 22,400,000 ریال
کد محصول 70105006
وضعیت موجودی موجود در نانوبازار